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一、半导体清洗用超纯水设备概述

半导体清洗用超纯水设备主要应用在半导体清洗行业，该设备采用***反渗透技术和EDI技术，保证设备的质量和出水水质。该设备整体采用***不锈钢材质，抗腐蚀能力强，同时也不会出现生锈问题，质量可靠，受到用户的***。

二、半导体清洗用超纯水设备工作原理

EDI装置将离子交换树脂充夹在阴/阳离子交换膜之间形成EDI单元。EDI工作原理如下图所示。EDI组件中将一定数量的EDI单元间用网状物隔开，形成浓水室。又在单元组两端设置阴/阳电极。在直流电的推动下，通过淡水室水流中的阴阳离子分别穿过阴阳离子交换膜进入到浓水室而在淡水室中去除。而通过浓水室的水将离子带出系统，成为浓水.EDI设备一般以反渗透(RO)纯水作为EDI给水。RO纯水电导率一般是40-2μS/cm(25℃)。EDI纯水电阻率可以高达18MΩ.cm(25℃)，但是根据去离子水用途和系统配置设置，EDI纯水适用于制备电阻率要求在1-18.2MΩ.cm(25℃)的纯水。

三、半导体清洗用超纯水设备制备工艺

1、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→粗混合床→精混合床→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→***过滤器→用水点。(≥18MΩ.CM)(传统工艺)

2、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→0.2或0.5μm***过滤器→用水点。(≥18MΩ.CM)(新工艺)

3、预处理→一级反渗透→加药机(PH调节)→中间水箱→***级反渗透(正电荷反渗膜)→纯水箱→纯水泵→EDI装置→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm***过滤器→用水点。(≥17MΩ.CM)(新工艺)